大成技研株式会社がお届けする”気体加熱器HOT-N2UNITは、主に半導体・液晶製造装置で排気されるガス反応生成物（微粉体）をN２を加熱する事で反応生成物を抑制する装置です。また、クライオ再生時間の短縮及び真空乾燥装置の乾燥時間短縮等々でご使用頂き、大幅なメンテナンスの工数削減と生産性の向上が約束されます。

用途
　・エッチング、CVD、ALD、イオン注入等の排気配管への反応
　　生成物詰り防止
　・粉体トラップ（トラパック）以降配管への反応生成物蓄積防止
　・ドライ真空ポンプのローター部等への反応生成物蓄積、ロック
　　防止
　・TMP出口配管付近への反応生成物詰り防止

特徴
　・カートリッジヒーター式の為、長寿命
　・気密性に優れている（1×10−10PA・m2/sec以下）
　・小型設計で有る為、狭い場所にも設置し易い